高溫蒸鍍儀，KT-Z1650CVD，石英＋不銹鋼腔體，觸摸屏控制，工藝儲存功能，自動電控擋板保護樣品
在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續的。通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到最 大電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發?；谶@點，出現了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或更高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作為標準配置，此泵作為機械真空泵的后級泵，真空為全自動控制，真空度優于1x10-5 mbar?？蛇M行預熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發開關使脈沖蒸發在用戶控制下進行。
標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節，非常容易適應各種樣品座。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD
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控制方式
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7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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加熱方式
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數字式功率調整器
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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最 大功率
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≤1200W
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最 大輸出電壓電流
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電壓≤12V 電流≤120A
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真空度
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機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
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樣品臺
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可旋轉φ62 （最 大可安裝φ50基底）
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樣品臺轉速
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8轉/分鐘
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樣品蒸發源調節距離
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70-140mm
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蒸發溫度調節
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≤1800℃
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支持蒸發坩堝類型
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鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
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預留真空接口
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KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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可選配擴展
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機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）
數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）
分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）
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