大功率濺射儀,桌面式設計,觸摸屏控制,石英+不銹鋼腔體,濺射距離可調,自動電動擋板可保護樣品和清洗靶材。
離子鍍膜技術是PVD技術的一種,是指在PVD沉積過程中,被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體(如Ti離子,N離子),等離子體在偏壓電場的作用下,沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中,離子的能量更強,離子繞射性更好,膜層的結合力更好,膜層致密性也更好,膜層性能更好。
離子鍍膜技術的應用非常廣泛,常見的有:裝飾性鍍膜,工具模具硬質鍍膜以及各種功能膜層。
大功率濺射儀技術參數;
控制方式
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7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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濺射電源
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直流濺射電源
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
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≤1000W
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輸出電壓電流
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電壓≤1000V 電流≤1A
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真空
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機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa
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濺射真空
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≤30Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
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樣品臺
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可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)
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樣品臺轉速
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8轉/分鐘
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樣品濺射源調節距離
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40-105mm
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真空測量
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皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa)
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預留真空接口
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KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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