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小型真空鎢舟熱蒸鍍儀KT-Z1650CVD
是一款小型多功能鍍膜儀,額定1800度高溫,自動樣品擋板,靶臺旋轉,觸摸屏多段控制,工藝儲存等功能。
正空蒸發鍍膜包括以下基本過程:(1)加熱蒸發過程:包括由凝聚相轉變為氣相的過程,每種蒸發物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。(2)氣態原子或分子在蒸發源與基片之間運輸,即原子或分子在環境氣氛中的飛行過程。
(3)蒸發原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發,凝聚,成核,核生長,形成連續的膜。由于基板溫度遠
低于基板溫度遠低于蒸發源溫度,因此,氣態分子在基片表面將發生直接由氣態到固態的相轉變過程。