小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD
離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消 除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
磁控濺射優點
(1)沉積速率快,沉積效率高,適合工業生產大規模應用;
(2)基片溫度低,適合塑料等不耐高溫的基材鍍膜;
(3)制備的薄膜純度高、致密性好、薄膜均勻性好、膜基結合力強;
(4)可制備金屬、合金、氧化物等薄膜;
小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠家供應技術參數;
控制方式
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7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
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濺射電源
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直流濺射電源
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
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≤1000W
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輸出電壓電流
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電壓≤1000V 電流≤1A
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真空
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機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa
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濺射真空
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≤30Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
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樣品臺
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可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)
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樣品臺轉速
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8轉/分鐘
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樣品濺射源調節距離
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40-105mm
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真空測量
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皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa)
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預留真空接口
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KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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