桌面小型蒸鍍儀
工藝控制:PC/PLC機制的自動控制、數據處理、工藝記憶儲存;
-
原位監控:石英晶振監測(QCM),光學監測,殘余氣體分析,其他原位監測技術或控制;
-
襯底固定:單襯底固定,客戶化襯底固定方式;
- 襯底夾具:加熱,冷卻,偏置,旋轉等;
- 保護樣品:配有樣品擋板,可手動或自動開/關擋板,達到及時遮擋樣品效果;
不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
桌面小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD
控制方式
|
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
|
加熱方式
|
數字式功率調整器
|
鍍膜功能
|
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
|
功率
|
≤1200W
|
輸出電壓電流
|
電壓≤12V 電流≤120A
|
真空度
|
機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa
|
擋板類型
|
電控
|
真空腔室
|
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
|
樣品臺
|
可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)
|
樣品臺轉速
|
8轉/分鐘
|
樣品蒸發源調節距離
|
70-140mm
|
蒸發溫度調節
|
≤1800℃
|
支持蒸發坩堝類型
|
鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
|
預留真空接口
|
KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
|
可選配擴展
|
機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa)
數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa)
分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa)
|